dc.contributor.advisor | García Arribas, Alfredo | |
dc.contributor.advisor | Martínez González, María Victoria | |
dc.contributor.author | Lete Segura, Nerea | |
dc.contributor.other | F. CIENCIA Y TECNOLOGIA | |
dc.contributor.other | ZIENTZIA ETA TEKNOLOGIA F. | |
dc.date.accessioned | 2018-04-18T15:52:35Z | |
dc.date.available | 2018-04-18T15:52:35Z | |
dc.date.issued | 2018-04-18 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10810/26417 | |
dc.description.abstract | La magneto-impedancia (MI) es el cambio de la impedancia que sufre un conductor ferromagnético blando ante los cambios de un campo magnético externo. En este trabajo se han fabricado dos conjuntos de sensores basados en el efecto de la MI formados por una muestra magnética y una microbobina que la rodea. Se han utilizado técnicas de fabricación típicas de la industria microelectrónica: fotolitografía y deposición por sputtering. Se ha hecho un estudio de la posibilidad de utilizar dos materiales (óxido de silicio y germanio) como aislante entre la muestra magnética y la bobina. Finalmente se ha caracterizado la magneto-impedancia de los dispositivos fabricados. | es_ES |
dc.language.iso | spa | es_ES |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/by-nc/3.0/es/ | |
dc.subject | magneto-impedancia | es_ES |
dc.subject | miroelectrónica | es_ES |
dc.subject | fotolitografía | es_ES |
dc.subject | sputtering | es_ES |
dc.title | Fabricación de microdispositivos de magneto-impedancia
por fotolitografía | es_ES |
dc.type | info:eu-repo/semantics/bachelorThesis | |
dc.date.updated | 2017-06-22T08:22:50Z | |
dc.language.rfc3066 | es | |
dc.rights.holder | Atribución-NoComercial (cc by-nc) | |
dc.contributor.degree | Grado en Ingeniería Electrónica;;Ingeniaritza Elektronikoko Gradua | es_ES |
dc.identifier.gaurregister | 79508-701557-09 | |
dc.identifier.gaurassign | 51852-701557 | |