dc.contributor.advisor | García Arribas, Alfredo | |
dc.contributor.advisor | Goiriena Goikoetxea, Maite | |
dc.contributor.author | Garitano Telleria, Mikel | |
dc.contributor.other | F. CIENCIA Y TECNOLOGIA | |
dc.contributor.other | ZIENTZIA ETA TEKNOLOGIA F. | |
dc.date.accessioned | 2023-01-25T17:33:39Z | |
dc.date.available | 2023-01-25T17:33:39Z | |
dc.date.issued | 2023-01-25 | |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/10810/59496 | |
dc.description.abstract | [ES] La fotolitografía sin máscaras forma una parte fundamental de la fabricación microelectrónica. Esta técnica consiste en la reproducción de patrones sobre una resina fotosensible, sin la necesidad del empleo de fotomáscaras físicas. De esta forma, ofrece una gran adaptabilidad y versatilidad al usuario. En el presente trabajo, se han fabricado microsensores basados en la magnetorresistencia anisótropa (AMR) y sus respectivos contactos eléctricos. Ha sido la primera vez que se ha empleado el equipo de exposición desde su instalación, y se ha trabajado en el límite de la resolución de la máquina (2 μm). Pese a problemas y complicaciones varias asociadas al equipo, se ha logrado obtener resultados satisfactorios. | es_ES |
dc.language.iso | spa | es_ES |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
dc.subject | Fotolitografía sin máscara | es_ES |
dc.subject | sala blanca | |
dc.title | Fotolitografía sin máscaras | es_ES |
dc.title.alternative | Fotolitografía Maskless | es_ES |
dc.type | info:eu-repo/semantics/bachelorThesis | |
dc.date.updated | 2022-06-23T09:49:57Z | |
dc.language.rfc3066 | es | |
dc.rights.holder | ©2022, Mikel Garitano Telleria | |
dc.contributor.degree | Grado en Ingeniería Electrónica;;Ingeniaritza Elektronikoko Gradua | es_ES |
dc.identifier.gaurregister | 124742-869269-09 | |
dc.identifier.gaurassign | 127018-869269 | |